一、產(chǎn)品名稱：

卡介菌多糖核酸納米高速膠體磨、迪蘇高剪切膠體磨、斯奇康高速膠體磨、卡提素高速膠體磨、唯爾本膠體磨價格, 膠體磨廠家、多功能膠體磨、中試型膠體磨

二、IKN高速研磨分散機簡介

IKN研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設備，是一項新的技術革新。研磨分散機是將膠體磨（錐體磨）+高剪切分散機一體化的設備，先研磨后分散，物料研磨后又瞬間進行分散，避免了物料的二次團聚。IKN研磨分散機轉速可達14000rpm，線速度44m/s，剪切速率強，也稱“高速研磨分散機”

三、IKN高速研磨分散機介紹

1、CMSD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在45DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到更低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

2、CMSD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CMSD2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼;特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMSD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

四、IKN膠體磨與guo內(nèi)其他膠體磨的比較

轉速：guo內(nèi)膠體磨50HZ時轉速一般為3000rpm

上海IKN設備在50HZ時設備轉速高達7890/13789RPM ，可以通過變頻調(diào)速，同時可通過皮帶加速 依肯的軸承可以承受140000RPM(轉速是他們的3-4倍，研磨的力度也是國內(nèi)膠體磨的3-4倍，這樣研磨的細度更小)。

設備結構：guo內(nèi)膠體磨設備的結構設計為三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三級為微磨碎區(qū)，溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣

上海IKN設備的設備結構為三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三級為微磨碎區(qū)，雖然都是三級結構，但是他們的設計不同理念不同，形狀及齒列的結構，溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺，配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉子/定子，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蝕。

大線速度：guo內(nèi)膠體磨設備能達到的大線速度大約在10-15M/S

在相同直徑磨頭下，上海IKN設備線速度可達

V= 3.14X0.055X7890/60=23 M/S

V=3.14X0.055X13789/60=40 M/S

大作用力：guo內(nèi)膠體磨作用力大約在14293至215440 S-1

上海IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

而對CMO模塊頭，磨頭的間歇G理論可以無限小，但是由于高速的運轉，造成軸的振動，需要一定的間歇，作用力可以無限大，但實際上比膠體磨要好。這是粉碎研磨的重要因素，相當于guo內(nèi)膠體磨的2-3倍。

五、當所處理的物料要達到非常細的程度時候，對于設備的要求就會非常的高。而從設備角度來考慮的話，能夠達到細的效果，要具備以下條件：

1、強的剪切力，CMSD2000系列研磨分散機轉速高達14000rpm，線速度為44m/s，是普通設備的4-5倍。

2、高精密度的定轉子，細研磨分散機的定轉子分為兩級，一級為膠體磨磨頭，采用三級錯齒結構，磨頭的溝槽的深度角度都符合流體力學的設計。第二級是分散頭，IKN分散頭有六種不同的規(guī)格，從粗到細，越來越密，分散效果佳。

3、機械密封，細的效果取決于高的轉速，而轉速越高機械密封的發(fā)熱量就會越大，設備的機械密封是否能夠耐的住這么高的轉速，國內(nèi)大多數(shù)廠家的機械密封是無法做到的，而IKN研磨分散機采用德國博格曼雙端面機械密封，并配有機封冷卻系統(tǒng)，可以承受高的轉速，穩(wěn)定性高。

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