主要特點(diǎn)
KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓電流反饋樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。
技術(shù)參數(shù)
控制方式
7寸人機(jī)界面手動(dòng)/自動(dòng)模式切換控制
濺射電源
直流濺射電源
鍍膜功能
0-999秒,5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
*功率
≤1000 W
*輸出電壓電流
電壓≤1000 V,電流≤1 A
極限真空
機(jī)械泵≤5 Pa(5分鐘),分子泵≤5*10^-3 Pa
濺射真空
≤10 Pa
擋板類型
電控
真空腔室
石英+不銹鋼腔體 Φ160 mm×170 mm
樣品臺(tái)
可旋轉(zhuǎn)Φ62 mm,(*可安裝Φ50 mm基底)
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速
8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離
40-105 mm
真空測(cè)量
皮拉尼真空計(jì)(已安裝測(cè)量范圍10E5 Pa~1E-1 Pa)
預(yù)留真空接口
KF25抽氣口,KF16放氣口,6mm卡套進(jìn)氣口
其他推薦產(chǎn)品
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主要特點(diǎn)
KT-Z1650PVD是一款小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓電流反饋樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn),樣品高度調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜。
技術(shù)參數(shù)
控制方式
7寸人機(jī)界面手動(dòng)/自動(dòng)模式切換控制
濺射電源
直流濺射電源
鍍膜功能
0-999秒,5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
*功率
≤1000 W
*輸出電壓電流
電壓≤1000 V,電流≤1 A
極限真空
機(jī)械泵≤5 Pa(5分鐘),分子泵≤5*10^-3 Pa
濺射真空
≤10 Pa
擋板類型
電控
真空腔室
石英+不銹鋼腔體 Φ160 mm×170 mm
樣品臺(tái)
可旋轉(zhuǎn)Φ62 mm,(*可安裝Φ50 mm基底)
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速
8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離
40-105 mm
真空測(cè)量
皮拉尼真空計(jì)(已安裝測(cè)量范圍10E5 Pa~1E-1 Pa)
預(yù)留真空接口
KF25抽氣口,KF16放氣口,6mm卡套進(jìn)氣口