一、美國OAI公司介紹：

OAI是一家位于美國硅谷的*精密設(shè)備制造商，有著40多年的研發(fā)、制造經(jīng)驗。該公司生產(chǎn)的產(chǎn)品用于 MEMS、半導(dǎo)體、納米技術(shù)、微流體、MicroTAS、平板和光伏/太陽能行業(yè)。 并提供廣泛的經(jīng)過現(xiàn)場驗證的產(chǎn)品組合，包括：掩模對準(zhǔn)器、UV 曝光系統(tǒng)、UV 光源、納米壓印模塊、晶圓鍵合機、UV 臭氧表面處理系統(tǒng)、邊緣珠曝光系統(tǒng)、晶圓分選機、太陽能模擬器 & IV 測試系統(tǒng)和眾多定制設(shè)計的解決方案。 這些產(chǎn)品有著良好的性能、高度的多功能性和*的可靠性，在全球的市場中贏得了客戶的青睞。

二、Model 800E紫外掩膜光刻機產(chǎn)品特點：

（1）多種光譜范圍可供選擇：汞燈：G（436nm）、H（405nm）、I（365nm）和310nm線，Hg-Xe燈：260nm和220nm。

（2）適用基片尺寸范圍：4英寸~ 12英寸直徑晶圓片；

（3）紫外燈功率范圍：200~2000W；

（4）使用上下雙CCD Gigi相機和電動X-Y-Z-Theta平臺進(jìn)行手動對準(zhǔn)，帶操縱桿/配方操作。

（5）通過 Cognex 軟件升級升級到 Auto Alignment。

（6）自動楔補償和帶編碼器的電動z軸和3點調(diào)平升級選項；

（7）紅外光學(xué)背面對齊選擇升級；

（8）使用1TB電腦進(jìn)行PC操作和配方存儲；

（9）接近（20um）：<3.0um，軟接觸：<2.0um，硬接觸：1um，真空接觸：≤0.6um。

（10）提供0.5-1um的正反面曝光和對位精度。

（11）可用于半自動化/研發(fā)和小批量生產(chǎn)模式。

（12）適用于生物、MEMS、半導(dǎo)體、微流體、納米壓印和CLiPP工藝。

三、OAI的Model 800E紫外掩膜光刻機與 Suss 的 Model MA6光刻機參數(shù)對比：